UV-Anlagen für den Einsatz in der industriellen Wasseraufbereitung
Die UV-C Strahlung eignet sich außerdem zur Eliminierung von gelöstem Ozon, das bei 254 nm die Strahlung adsorbiert und in photolytisch zu Sauerstoff zerfällt. Der Abbau von im Wasser gelösten Chlordioxid ist im Bereich eines Adsorptionsmaximums von 350 nm möglich. Eine Besonderheit stellt die Eliminierung von TOC (Total Organic Carbon) im Reinstwasser bei energiereicher 185 nm Wellenlänge dar: Im bestrahlten Wasser bilden sich hochreaktive OH – Radikale (Hydroxylradikale), die die organischen Moleküle oxidativ zersetzen.
Die verfahrenstechnische Kombination von UV-Bestrahlung mit Oxidationsmitteln, wie Wasserstoffperoxid oder Ozon, wird als Advanced Oxidation Process AOP bezeichnet und für die Eliminierung schwerabbaubarer organischer Substanzen, vor allem in Sonderabwässern eingesetzt.
Aufgrund unterschiedlicher Systemanforderungen werden in der praktischen Anwendung Niederdruck- und Mitteldruck-UV-Strahler verwendet, die in speziell konstruierten Edelstahl-Durchfluss- oder Tauchreaktoren für eine zuverlässige, umweltfreundliche Wasseraufbereitung eingesetzt werden.
Wichtige Anwendungsfelder für die UV-Technik sind:
- Trinkwasser: Eliminierung von Mikroorganismen u.a. in Kombination mit Filtertechniken u. Membran-anlagen; Legionellenprophylaxe und Biofilmvermeidung in Wasserspeicher und Leitungsnetzen
- Reinstwasser in der Halbleiterindustrie: Reduzierung von TOC mit 185 nm Strahlern zur Vermeidung von Produktionsqualitäten und Desinfektion von Behälter und Ringleitungen
- Reinstwasser in der Pharmaindustrie: Abbau von gelöstem Ozon in kalten Lager- und Verteilsystemen, die mit Ozon desinfiziert und sanitisiert werden
- Schwimmbäder / Pools: Wasserdesinfektion mit Chlor-Einsparung; Abbau von gebundenem Chlor mit Mitteldruckstrahlern
- Prozesswasserdesinfektion in der Lebensmittel- und Getränkeindustrie: Abbau von überschüssigem Chlordioxid, z.B. aus dem CIP-Prozess
- Kühlwasser-Behandlung an Rückkühlwerken zur Reduzierung von Algenwachstum und Biofilmbildung
- Aquarien und Fischteiche: Zerstörung von Parasiten und Algen zur Vermeidung von Fischkrankheiten
- Advanced Oxidation Process AOP: Eliminierung schwerabbaubarer organischer Substanzen im Abwasser durch die Kombinationswirkung von UV und OH-Radikalen bzw. Oxidationsmittel, wie Ozon oder H2O2
In den UV-Anlagen werden zumeist zwei unterschiedlich UV-Strahler-Varianten verwendet:
- Quecksilber- und Amalgam-Niederdruckstrahler mit UV-Emissionsmaximum bei 254 nm und einer weiteren Linie bei 185 nm; Einzelstrahler im Bereich von 6 – 320 W
- Regelbare Mitteldruckstrahler mit breitem Spektrum und Emissionslinien zwischen ca. 250 und 580 nm und hoher Energiedichte; Anlagenbereich von 400 W bis 20 kW
Die von HeylNeomeris angebotenen, standardisierten UV-Anlagen werden vor allem in der Behandlung von Trinkwasser, Schwimmbadwasser, Kühlwasser und industriellem Prozess- und Reinstwasser eingesetzt. Die Anlagen bestehen aus dem Edelstahlreaktor in unterschiedlichen Werkstoffqualitäten, UV-Strahlern im Quarztauchrohr und einem Schaltschrank mit Vorschaltgeräten und je nach Ausführung einen UV-Überwachungsmonitor. Sonderanlagen oder UV-Reaktoren mit speziellen Anschlüssen können kundenspezifisch ausgelegt werden.
Die Baureihe POOL MS verwendet leistungsstarke Mitteldruckstrahler (650 bis 5000 W) in Edelstahl-reaktoren 1.4571 für die Reduktion von Chloraminen u.a. haut-reizenden Substanzen. Die Reaktoren sind auf Durchflussraten zwischen 14 und 247 m3/h bei 600 J/m2 UV-Dosis ausgelegt. Die Anlagen sind mit einer multi-funktionalen Steuerung mit UV-Monitor und UV-Sensor nach DVGW-Richtlinien ausgerüstet.
Der im Reinstwasser gelöste Gehalt an organischen Kohlenstoff (TOC) ist für die Qualität von Produktions- und Reinigungsprozesse in der Halbleiter- und Elektronikindustrie ein sehr wichtiger Parameter. Die UV-Technik wird eingesetzt, um den bereits durch Umkehrosmose/EDI zurückgehaltenen TOC im Reinstwasser weitestgehend auf wenige ppb zu reduzieren. Die energiereiche UV-Emissionslinie bei 185 nm erzeugt im Wasser hochreaktive OH-Radikale, die organische Kohlenstoffmoleküle oxidativ abbauen. Die TOC
Baureihe verfügt über Spezial-Niederdruckstrahler aus Suprasil-Glas im Edelstrahlreaktor aus 1.4571 mit Flanschanschlüssen nach DIN 2576 (Alternativen möglich) und optional mit Lichtfallen für die geeignete Montage in Kunststoffleitungen. Es wird der Durchflussbereich bis ca. 30 m3/h mit Einzel- und Mehrstrahler-Reaktoren bezogen auf eine leistungsstarke UV-Strahlungsdosis von 1600 J/m2 bei einer Transmission von 98 % / 1 cm abgedeckt. Sondergeräte für höhere Durchflüsse und Strahlungsdichten sind lieferbar.
Gerne leisten wir kundenspezifische Beratung und Unterstützung bei Anlagenplanung, -bau und Inbetriebnahme. Unser Fachpersonal ist außerdem auf Service und Wartung der Gerätetechnik inkl. Personaleinweisung spezialisiert.
Weitere Informationen zu den UV-Anlagen und zu den Wartungs- und Service-Angeboten finden Sie unter: